计算器的集成电路  
 

     计算器使用的集成电路是半导体集成电路之一，由于它的集成度很高，习惯上又称作大规模集成电路.集成电路的面积虽然只有几毫米见方，但却是神通广大，其奥秘何在?下面让我们把集成电路的形成方法简单介绍如下。
 

     集成电路的主要材料是半导体硅，硅的表面很容易生成一层能起自我保护作用的二氧化硅层，这种二氧化硅不仅能起屏蔽外界环境污染的作用，更重要的是它对某些杂质的扩散有屏蔽的作用。然而自然形成的二氧化硅很薄而又稀松，对杂质的屏蔽作用不是很强，所以还筋要采用加高温的办法，热氧化一层坚固的二氧化硅。然后采用照相制版技术，在二氧化硅层上面涂上一层光致抗蚀剂，并筱盖上有一定图形的掩模版.在紫外光的照射下曝光、显影，这样，曦光部分具有抗蚀作用，未曝光部分就失去抗蚀作用。再将上述硅片置于氢氟酸中，曝光的区域就保留了二氧化硅膜，未曝光的区域就除去了二暇化硅膜.这一过程就是“光刻.，光刻就是在整个二氧化硅层上开些“窗口“，让杂质从这些窗口挤进硅中去。掺杂的标准方法是高温扩散法，即在1000-1200℃的特制高温炉中进行.例如在加热了的硅表面以燕汽状态的磷(Y族)或翩(111)原子向硅体内扩散。近年又发展了一种叫做“离子注入”的办法.在常温下让高能量的翻离子等打入硅体内，优点更多。杂质在半导体器件中确实占有重要的地位，掺了杂质的硅材料，才能形成有用的集成电路。因为纯净的半导体硅的电阻率相当高，约为21400欧姆.厘米，但若含有徽最的III, v族元素，例如百万分之一，硅的电阻率可以降至0. 4欧姆·厘米.另外。掺V族元素的硅以负电荷(电子)参与导电，称为N型硅;掺川族元素的硅以正电荷(空穴)参与导电，称为P型硅。两种类型的硅形成交接面.称为PN结，这个P、结在半导体器件中扮演着重要的角色，一个PN结就是一个二极管，具有整流作用，两个挟得很近的PN结可形成一个晶体管，具有放大信号的作用，PN结还可以起到电容的作用，也可起到电绝缘(隔离)的作用.因此，在半导体器件或集成电路的制作中，就是要制作许多多种多样的PN结。
 

     在集成电路中为了完成一个电路的功能，还要将隔离开的各元件根据需要以一定的方式连接起来，这叫“布线”。即在整个硅片表面上扭盖一层二暇化硅，然后在需要连接的部位开出窗口(叫“引线孔”)，接着用真空蒸发的办法再搜盖一层铝膜，再用光刻把不偌要有连线的部位刻掉，一个完整的电路芯片才算完成了，再经过引出线的压焊、封装等工序，最后就形成一个实用的集成电路了。